Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd., un fabricant mondial d'outils optiques de précision, a officiellement dévoilé aujourd'hui le lancement mondial de son système EBL A63-7010 de nouvelle génération. Le nouveau système est doté d'un spot de faisceau fin de ≤2 nm, d'un balayage à haute vitesse de 50 MHz et d'un positionnement de précision basé sur un interféromètre laser pour fournir une solution de lithographie par écriture directe à faible coût pour la R&D avancée en semi-conducteurs, la fabrication de dispositifs quantiques et la nanophotonique. Les principaux avantages de ce système sont : la précision et l'efficacité.
Le système EBL A63-7010 intègre une conception optique électronique avancée avec des capacités d'imagerie double mode, comprenant des détecteurs d'électrons secondaires montés sur le côté et des détecteurs d'électrons en colonne. Il présente une résolution inférieure à 1 nm à une tension d'accélération de 15 kV et une résolution de ≤1,5 nm à basse tension de 1 kV. À une densité de courant de faisceau > 5 300 A/cm et une taille de spot de faisceau minimale > 2 nm, il dispose d'un obturateur de faisceau d'électrons à haute vitesse avec un temps de réponse de <100 ns (c'est-à-dire une vitesse d'écriture de motifs à l'échelle nanométrique). Le pas de précision intègre un système de contrôle par interféromètre laser en boucle fermée avec un épissage de champ de grande surface, éliminant ainsi les erreurs d'épissage typiques des systèmes EBL traditionnels dans la fabrication de grands motifs. Cela garantit que les nanostructures ne différeront pas sur plusieurs champs. Le moteur de balayage à haute vitesse de 50 MHz, combiné à des algorithmes d'optimisation de trajectoire intelligents, réduit considérablement le temps d'exposition pour les motifs complexes, ce qui est plus important pour les chercheurs en raison de leurs exigences de débit et de précision polyvalentes.Pourquoi choisir l'A63-7010 ? Points forts du produit
Fonctionnement convivial : L'interface logicielle intégrée prend en charge l'importation de formats GDSII/OASIS standard, avec des bibliothèques de paramètres de processus intégrées pour réduire la courbe d'apprentissage
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